• 尊龙凯时人生需要博

    Primo HD-RIE ® 是尊龙凯时人生需要博於2015年推出的新一代電介質刻蝕產品,是在Primo SSC AD-RIETM設計基礎上實現的具有六個单眼應臺腔體的系統,定位於為中高深寬比刻蝕提供綜合解決方案。 該設備具有以下新特性:更高的同步脈衝射頻功率、高功率高溫靜電託盤、氣體脈衝、多區氣體調節、可冷卻聚焦環工藝組件和更穩定的上電極溫度控制等。 Primo HD-RIE在3D-NAND及DRAM中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現優異,在一些關鍵制程上已實現量產。

    Primo HD-RIE®

    為NAND和DRAM晶片製造提供創新的刻蝕解決方案

    產品特點

    具有獨立氣體輸運系統的单眼應臺腔體設計

    多區氣體調節以及雙區ESC溫度控制

    高功率以及高溫靜電吸盤

    氣體脈衝

    雙級同步脈衝射頻系統,甚高功率的低頻射頻脈衝以提供高離子轟擊能量

    穩定的上電極溫度控制系統

    可冷卻聚焦環以防止矽片邊緣刻蝕停止

    高上下電極面積比,以應用於中高深寬比刻蝕

    競爭優勢

    高電介質資料刻蝕速率,多手段刻蝕均勻度調節

    高粒子轟擊能量,以擴大高深寬比刻蝕工藝視窗

    氣體脈衝系統,提供更靈活的工藝控制方案

    應對特殊工藝的高溫高功率靜電吸